鍍膜儀的一些基本技術要求要了解

更新時間：2021-08-06 | 訪問量：1606

　　鍍膜儀是目前鍍膜行業(yè)應用廣泛的真空設備，隨著行業(yè)的發(fā)展，各種類型的鍍膜儀也在逐漸出現。但大部分人并不了解鍍膜儀的工作原理。鍍膜儀主要是由真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成。真空設備也分好多類型和型號，種類、用途不一樣，其型號也就不一樣，但它們的工作原理是相通和類似的。

　　鍍膜儀的基本技術要求說明：

　　1.設備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結構形式，應符合GB/T的規(guī)定。

　　2.在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規(guī)管，分別測量各部位的真空度。當發(fā)現電場對測量造成干擾時，應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。

　　3.如果設備使用的主泵為擴散泵時，應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱。

　　4.設備的鍍膜室應設有觀察窗，應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。

　　5.離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率，提高鍍膜材料的利用率，合理匹配沉積源的功率，合理布置沉積源在真空室體的位置。

　　6.合理布置加熱裝置，一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。

　　5.工件架應與真空室體絕緣，工件架的設計應使工件膜層均勻。

　　8.離子鍍膜儀一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源，離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置，維持工作穩(wěn)定。

　　9.主要環(huán)境條件：

　　①環(huán)境溫度：10-30℃；

　　②相對濕度：≤75%；